سیستم MOCVD چیست؟

MOCVD که با نام رسوب بخار شیمیایی فلز-آلی (MOCVD) شناخته می شود، تکنیکی برای رشد لایه های نیمه هادی نازک بر روی یک بستر است. با استفاده از MOCVD، بسیاری از نانولایه‌ها را می‌توان با دقت بسیار بالا، هر کدام با ضخامت کنترل‌شده، برای تشکیل موادی با خواص نوری و الکتریکی خاص، رسوب داد.

سیستم MOCVD نوعی سیستم رسوب بخار شیمیایی (CVD) است که از پیش سازهای آلی فلزی برای رسوب لایه های نازک مواد بر روی یک بستر استفاده می کند. این سیستم از یک مخزن راکتور، یک سیستم انتقال گاز، یک نگهدارنده بستر و یک سیستم کنترل دما تشکیل شده است. پیش سازهای آلی فلزی همراه با گاز حامل به مخزن راکتور وارد می شوند و دما به دقت کنترل می شود تا از رشد یک لایه نازک با کیفیت بالا اطمینان حاصل شود.

استفاده از MOCVD دارای مزایای متعددی نسبت به سایر تکنیک های رسوب گذاری است. یک مزیت این است که امکان رسوب گذاری مواد پیچیده با کنترل دقیق ضخامت و ترکیب لایه های نازک را فراهم می کند. این امر به ویژه برای تولید دستگاه های نیمه هادی با کارایی بالا مهم است، جایی که خواص مواد لایه های نازک می تواند تأثیر قابل توجهی بر عملکرد دستگاه داشته باشد.

مزیت دیگر MOCVD این است که می توان از آن برای رسوب لایه های نازک بر روی انواع بسترها از جمله سیلیکون، یاقوت کبود و آرسنید گالیم استفاده کرد. این انعطاف‌پذیری، آن را به یک فرآیند ضروری در ساخت طیف وسیعی از دستگاه‌های نیمه‌رسانا، از تراشه‌های کامپیوتری گرفته تا LED تبدیل می‌کند.

سیستم های MOCVD به طور گسترده ای در صنعت نیمه هادی ها استفاده می شوند و در توسعه بسیاری از فناوری های پیشرفته نقش اساسی داشته اند. به عنوان مثال، MOCVD برای تولید LED های با راندمان بالا برای کاربردهای روشنایی و نمایش، و همچنین سلول های خورشیدی با کارایی بالا برای کاربردهای فتوولتائیک استفاده شده است.