گیرنده های بشکه ای یک جزء حیاتی هستند که در فرآیندهای مختلف تولید نیمه هادی ها مانند LPE، MOCVD مورد استفاده قرار می گیرند. Semicorex با استفاده از فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) کاربید سیلیکون با خلوص بالا را در لایههای نازک بر روی گرافیت اعمال میکند که باعث میشود مواد نیمهرسانای درجه یک با پایداری حرارتی عالی، مقاومت شیمیایی و مقاومت در برابر سایش، آنها را برای استفاده در سطوح بالا ایدهآل کند. فرآیندهای دما
گرافیت با پوشش SiC با خلوص بالا
مقاومت در برابر حرارت و مقاومت شیمیایی برتر
یکنواختی حرارتی بالا
مقاومت در برابر سایش عالی
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor یک جزء با مهندسی دقیق است که برای فرآیندهای پیشرفته تولید نیمه هادی، به ویژه اپیتاکسی طراحی شده است. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بیشتر بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلندمدت شما در چین شویم.
ادامه مطلبارسال استعلامگرافیت پوشش داده شده با کاربید سیلیکون بشکه ای Semicorex یک جزء تخصصی است که برای استفاده در فرآیند اپیتاکسی، به ویژه در حمل ویفر طراحی شده است. امروز با ما تماس بگیرید تا در مورد چگونگی کمک به شما در مورد نیازهای پردازش ویفر نیمه هادی بیشتر بدانید.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth محصولی با کارایی بالا است که برای ارائه عملکرد ثابت و قابل اعتماد در مدت زمان طولانی طراحی شده است. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی، آن را به انتخابی ایدهآل برای رشد لایههای اپیتاکسیال با کیفیت بالا بر روی تراشههای ویفر تبدیل کرده است. قابلیت سفارشی سازی و مقرون به صرفه بودن آن، آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy محصولی با کیفیت است که چسبندگی پوششی عالی، خلوص بالا و مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا را ارائه می دهد. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی آن را به انتخابی ایده آل برای رشد لایه های اپیکسیال بر روی تراشه های ویفر تبدیل کرده است. مقرون به صرفه بودن و قابلیت سفارشی سازی آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلامسیستم راکتور Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) محصولی نوآورانه است که عملکرد حرارتی عالی، حتی مشخصات حرارتی و چسبندگی پوشش برتر را ارائه می دهد. خلوص بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی آن را به گزینه ای ایده آل برای استفاده در صنعت نیمه هادی تبدیل کرده است. گزینه های قابل تنظیم و مقرون به صرفه بودن آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor یک محصول بسیار بادوام و قابل اعتماد برای رشد لایه های اپیکسیال بر روی تراشه های ویفر است. مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا و خلوص بالا آن را برای استفاده در صنعت نیمه هادی مناسب می کند. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی آن را به انتخابی ایده آل برای رشد لایه اپیکسیال با کیفیت بالا تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام