- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
محصولات
- View as
صفحه حامل اچینگ PSS برای نیمه هادی ها
Semicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor به طور ویژه برای محیط های تمیزکننده شیمیایی با دمای بالا و خشن مورد نیاز برای رشد اپیتاکسیال و فرآیندهای جابجایی ویفر طراحی شده است. صفحه حامل اچینگ PSS فوق خالص ما برای نیمه هادی ها برای پشتیبانی از ویفرها در طول مراحل رسوب لایه نازک مانند MOCVD و گیرنده های اپیتاکسی، پنکیک یا پلت فرم های ماهواره ای طراحی شده است. حامل با پوشش SiC ما دارای مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا، خواص توزیع گرما عالی، و هدایت حرارتی بالا است. ما راه حل های مقرون به صرفه ای را برای مشتریان خود ارائه می دهیم و محصولات ما بسیاری از بازارهای اروپایی و آمریکایی را پوشش می دهند. Semicorex مشتاق است که شریک طولانی مدت شما در چین باشد.
ادامه مطلبارسال استعلام
حامل اچینگ PSS با پوشش SiC
حامل های ویفر که در رشد اپیکسیال و پردازش ویفر استفاده می شوند باید دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی سخت را تحمل کنند. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier به طور خاص برای این کاربردهای تجهیزات اپیتاکسی سخت مهندسی شده است. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلندمدت شما در چین شویم.
ادامه مطلبارسال استعلام
گیرنده بشکه ای با پوشش SiC برای رشد همپای LPE
Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth محصولی با کارایی بالا است که برای ارائه عملکرد ثابت و قابل اعتماد در مدت زمان طولانی طراحی شده است. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی، آن را به انتخابی ایده‌آل برای رشد لایه‌های اپیتاکسیال با کیفیت بالا بر روی تراشه‌های ویفر تبدیل کرده است. قابلیت سفارشی سازی و مقرون به صرفه بودن آن، آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام
Barrel Susceptor Epi System برای LPE Epitaxy
Semicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy محصولی با کیفیت است که چسبندگی پوششی عالی، خلوص بالا و مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا را ارائه می دهد. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی آن را به انتخابی ایده آل برای رشد لایه های اپیکسیال بر روی تراشه های ویفر تبدیل کرده است. مقرون به صرفه بودن و قابلیت سفارشی سازی آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام
سیستم راکتور اپیتاکسی فاز مایع (LPE).
سیستم راکتور Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) محصولی نوآورانه است که عملکرد حرارتی عالی، حتی مشخصات حرارتی و چسبندگی پوشش برتر را ارائه می دهد. خلوص بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی آن را به گزینه ای ایده آل برای استفاده در صنعت نیمه هادی تبدیل کرده است. گزینه های قابل تنظیم و مقرون به صرفه بودن آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام
رسوب همبستگی CVD در راکتور بشکه ای
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor یک محصول بسیار بادوام و قابل اعتماد برای رشد لایه های اپیکسیال بر روی تراشه های ویفر است. مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا و خلوص بالا آن را برای استفاده در صنعت نیمه هادی مناسب می کند. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی آن را به انتخابی ایده آل برای رشد لایه اپیکسیال با کیفیت بالا تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام
