صفحه حامل ICP اچینگ Semicorex راه حل مناسبی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما مقاومت در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان گاز آرام را ارائه می دهد. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلامنگهدارنده ویفر Semicorex برای فرآیند حکاکی ICP، انتخاب مناسبی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما دارای مقاومت عالی در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان آرام گاز بهینه برای نتایج ثابت و قابل اعتماد است.
ادامه مطلبارسال استعلامگرافیت پوشش داده شده با کربن سیلیکون ICP Semicorex، انتخاب ایده آلی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما دارای مقاومت عالی در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان آرام گاز بهینه است.
ادامه مطلبارسال استعلامسیستم Etching Plasma Semicorex's ICP را برای فرآیند PSS برای فرآیندهای epitaxy و MOCVD با کیفیت بالا انتخاب کنید. محصول ما به طور خاص برای این فرآیندها مهندسی شده است و مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی ارائه می دهد. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلامصفحه اچینگ پلاسما ICP Semicorex مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی برای فرآیندهای جابجایی ویفر و رسوب لایه نازک ایجاد می کند. محصول ما برای مقاومت در برابر دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن طراحی شده است که دوام و طول عمر را تضمین می کند. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلامبه دنبال یک حامل ویفر قابل اعتماد برای فرآیندهای اچینگ هستید؟ نگاهی به حامل اچینگ ICP سیلیکون کاربید Semicorex نداشته باشید. محصول ما برای مقاومت در برابر دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن طراحی شده است که دوام و طول عمر را تضمین می کند. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام