نگهدارنده ویفر اچینگ ICP Semicorex راه حل مناسبی برای فرآیندهای جابجایی ویفر در دمای بالا مانند اپیتاکسی و MOCVD است. با مقاومت اکسیداسیون پایدار و در دمای بالا تا 1600 درجه سانتیگراد، حامل های ما پروفیل های حرارتی، الگوهای جریان گاز آرام را تضمین می کنند و از آلودگی یا انتشار ناخالصی ها جلوگیری می کنند.
ادامه مطلبارسال استعلام