سیستم Etching Plasma Semicorex's ICP را برای فرآیند PSS برای فرآیندهای epitaxy و MOCVD با کیفیت بالا انتخاب کنید. محصول ما به طور خاص برای این فرآیندها طراحی شده است و مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی ارائه می دهد. با سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلامصفحه اچینگ پلاسما ICP Semicorex مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی برای فرآیندهای جابجایی ویفر و رسوب لایه نازک ایجاد می کند. محصول ما برای مقاومت در برابر دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن طراحی شده است که دوام و طول عمر را تضمین می کند. با سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام