بشکه گرافیت با پوشش سیلیکون کاربید

وقتی صحبت از تولید نیمه هادی می شود، بشکه گرافیتی با پوشش کاربید سیلیکون Semicorex بهترین انتخاب برای عملکرد و قابلیت اطمینان استثنایی است. پوشش SiC با کیفیت بالا و چگالی و رسانایی حرارتی عالی آن، توزیع و حفاظت حرارت عالی را حتی در چالش‌برانگیزترین محیط‌های با دمای بالا و خورنده ارائه می‌کند.

بشکه گرافیتی با پوشش کاربید سیلیکون ما یک پروفیل حرارتی یکنواخت را تضمین می کند و بهترین الگوی جریان گاز آرام را تضمین می کند. از انتشار هر گونه آلودگی یا ناخالصی در ویفر جلوگیری می کند و آن را برای استفاده در محیط های تمیز اتاق ایده آل می کند. Semicorex یک تولید کننده و تامین کننده گیره گرافیت با پوشش SiC در چین در مقیاس بزرگ است و محصولات ما از مزیت قیمت خوبی برخوردار هستند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک طولانی مدت شما در صنعت نیمه هادی باشیم.

پارامترهای بشکه گرافیت پوشش داده شده با کاربید سیلیکون

ویژگی های بشکه گرافیت با پوشش سیلیکون کاربید

- هم بستر گرافیت و هم لایه کاربید سیلیکون چگالی خوبی دارند و می توانند نقش محافظتی خوبی در دمای بالا و محیط های کاری خورنده داشته باشند.

- سوسپتور با روکش کاربید سیلیکون که برای رشد تک کریستال استفاده می شود، صافی سطحی بسیار بالایی دارد.

- کاهش تفاوت در ضریب انبساط حرارتی بین بستر گرافیت و لایه کاربید سیلیکون، به طور موثر استحکام پیوند را برای جلوگیری از ترک خوردگی و لایه لایه شدن بهبود می بخشد.

- هر دو لایه گرافیت و لایه کاربید سیلیکون دارای رسانایی حرارتی بالا و خواص توزیع گرما عالی هستند.

- نقطه ذوب بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا، مقاومت در برابر خوردگی.