چین گرافیت ویژه تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

گرافیت تخصصی نوعی گرافیت مصنوعی است که پردازش می شود. این ماده مهمی است که در تمام جنبه های فرایند تولید نیمه هادی و فتوولتائیک ، از جمله رشد کریستال ، کاشت یون ، اپیتاکس و غیره ضروری است.

1. رشد کریستال کاربید سیلیکون (SIC)

کاربید سیلیکون ، به عنوان یک ماده نیمه هادی نسل سوم ، به طور گسترده در وسایل نقلیه انرژی جدید ، ارتباطات 5G و زمینه های دیگر مورد استفاده قرار می گیرد. در فرآیند رشد کریستال SIC 6 اینچی و 8 اینچی ، گرافیت ایزوستاتیک در درجه اول برای تولید اجزای کلیدی زیر استفاده می شود:

Graphite Crucible: این می تواند برای سنتز مواد غذایی پودر SIC و همچنین کمک به رشد کریستال در دماهای بالا استفاده شود. خلوص بالا ، مقاومت در برابر درجه حرارت بالا و مقاومت در برابر شوک حرارتی یک محیط رشد کریستالی پایدار را تضمین می کند.

بخاری گرافیت: این توزیع گرما یکنواخت را فراهم می کند و از رشد کریستال SIC با کیفیت بالا اطمینان می دهد.

لوله عایق: این یکنواختی دما را در کوره رشد کریستال حفظ می کند و باعث کاهش گرما می شود.

2. کاشت یونی

کاشت یون یک فرآیند کلیدی در تولید نیمه هادی است. گرافیت ایزوستاتیک در درجه اول برای تولید اجزای زیر در ایمپلنترهای یونی استفاده می شود:

Graphite Gotter: این باعث می شود یونهای ناخالصی در پرتو یون ، از خلوص یون اطمینان حاصل شود.

حلقه تمرکز گرافیت: این به پرتو یون متمرکز شده و باعث بهبود دقت و کارآیی کاشت یون می شود. سینی های بستر گرافیت: برای پشتیبانی از ویفرهای سیلیکون و حفظ ثبات و قوام در هنگام کاشت یونی استفاده می شود.

3. فرآیند اپیتاکس

فرآیند Epitaxy یک گام مهم در ساخت دستگاه نیمه هادی است. گرافیت تحت فشار ایزوستاتیک در درجه اول برای تولید اجزای زیر در کوره های اپیتاکس استفاده می شود:

سینی های گرافیتی و حساس کننده ها: برای پشتیبانی از ویفرهای سیلیکون ، ارائه پشتیبانی پایدار و هدایت حرارتی یکنواخت در طی فرآیند اپیتاکس استفاده می شود.

4. سایر برنامه های تولید نیمه هادی

گرافیت تحت فشار ایزوستاتیک نیز به طور گسترده در برنامه های تولید نیمه هادی زیر مورد استفاده قرار می گیرد:

فرآیند اچینگ: برای تولید الکترودهای گرافیتی و اجزای محافظ برای اچچرها استفاده می شود. مقاومت در برابر خوردگی آن و خلوص بالا از ثبات و دقت در فرآیند اچینگ اطمینان می دهد.

رسوب بخار شیمیایی (CVD): برای تولید سینی ها و بخاری های گرافیتی در کوره های CVD استفاده می شود. هدایت حرارتی بالا و مقاومت در برابر درجه حرارت بالا ، رسوب فیلم نازک یکنواخت را تضمین می کند.

آزمایش بسته بندی: برای ساخت وسایل تست و سینی های حامل استفاده می شود. با دقت بالا و آلودگی کم آن ، نتایج آزمایش دقیق را تضمین می کند.

مزایای قطعات گرافیتی

خلوص بالا:

با استفاده از مواد گرافیتی تحت فشار ایزوستاتیک تحت فشار با محتوای ناخالصی بسیار کم ، نیازهای خلوص مواد دقیق تولید نیمه هادی را برآورده می کند. کوره تصفیه خود این شرکت می تواند گرافیت را به زیر 5ppm پاک کند.

با دقت بالا:

با استفاده از تجهیزات پیشرفته پردازش و فناوری پردازش بالغ ، اطمینان حاصل می کند که دقت بعدی محصول و تحمل شکل و موقعیت به سطح میکرون برسد.

عملکرد بالا:

این محصول از مقاومت در برابر دمای بالا ، مقاومت در برابر خوردگی ، مقاومت در برابر تابش ، هدایت حرارتی بالا و سایر خصوصیات برخوردار است و شرایط سخت کار سخت تولید نیمه هادی را برآورده می کند.

سرویس سفارشی:

طراحی و پردازش محصول سفارشی می تواند با توجه به نیاز مشتری برای تأمین نیازهای سناریوهای مختلف برنامه ارائه شود.

انواع محصولات گرافیتی

(1) گرافیت ایزوستاتیک
محصولات گرافیتی ایزوستاتیک توسط فشار ایزوستاتیک سرد تولید می شوند. در مقایسه با سایر روشهای شکل گیری ، صلیب های تولید شده توسط این فرآیند ثبات عالی دارند. محصولات گرافیتی مورد نیاز برای کریستال های تک SIC از نظر اندازه بزرگ هستند که منجر به خلوص ناهموار در سطح و در داخل محصولات گرافیتی می شود که نمی توانند نیازهای استفاده را برآورده کنند. به منظور برآورده کردن الزامات خالص سازی عمیق محصولات گرافیتی بزرگ مورد نیاز برای کریستال های تک SIC ، یک فرآیند تصفیه ترموشیمیایی با درجه حرارت بالا باید برای دستیابی به تصفیه عمیق و یکنواخت محصولات گرافیتی به اندازه بزرگ یا خاص به دست بیاید ، به طوری که خلوص سطح محصول و هسته می تواند نیازهای استفاده را برآورده کند.

(2) گرافیت متخلخل
گرافیت متخلخل نوعی گرافیت با تخلخل بالا و چگالی کم است. در فرآیند رشد کریستال SIC ، گرافیت متخلخل نقش مهمی در بهبود یکنواختی انتقال جرم ، کاهش میزان وقوع تغییر فاز و بهبود شکل کریستال دارد.
استفاده از گرافیت متخلخل باعث افزایش دما و یکنواختی دما در ناحیه مواد اولیه می شود ، اختلاف دمای محوری را در سطح قابل افزایش افزایش می دهد و همچنین تأثیر خاصی در تضعیف تبلور مجدد سطح مواد اولیه دارد. در محفظه رشد ، گرافیت متخلخل باعث افزایش پایداری جریان مواد در طول فرآیند رشد می شود ، نسبت C/SI منطقه رشد را افزایش می دهد ، به کاهش احتمال تغییر فاز کمک می کند و در عین حال ، گرافیت متخلخل نیز در بهبود رابط کریستالی نقش دارد.

(3) احساس کرد
احساس نرم و احساس سخت هر دو نقش مواد عایق حرارتی مهم را در رشد کریستال SIC و پیوندهای اپیتاکسیال بازی می کنند.

(4) فویل گرافیتی
کاغذ گرافیت یک ماده کاربردی است که از گرافیت پوسته کربن بالا از طریق درمان شیمیایی و نورد با درجه حرارت بالا ساخته شده است. دارای هدایت حرارتی بالا ، هدایت الکتریکی ، انعطاف پذیری و مقاومت در برابر خوردگی است.

(5) مواد کامپوزیت
میدان حرارتی کربن-کربن یکی از مواد مصرفی اصلی در تولید کوره کریستالی فتوولتائیک است.

تولید نیمورکس

Semicorex گرافیت را با روشهای تولیدی با دسته کوچک و سفارشی ساخته شده است. تولید دسته کوچک ، محصولات را کنترل می کند. کل فرآیند توسط کنترل کننده های منطق قابل برنامه ریزی (PLC) کنترل می شود ، داده های فرآیند دقیق ثبت می شود و قابلیت ردیابی چرخه عمر کامل را فراهم می کند.

در طی کل فرآیند کباب کردن ، قوام به دست آمده در مقاومت در مکانهای مختلف و کنترل دمای محکم حفظ شده است. این امر همگن و قابلیت اطمینان مواد گرافیتی را تضمین می کند.

Semicorex از فناوری فشار کاملاً ایزوستاتیک استفاده می کند ، که با سایر تأمین کنندگان متفاوت است. این بدان معناست که گرافیت خود فوق العاده یکنواخت است و در فرآیندهای اپیتاکسیال از اهمیت ویژه ای برخوردار است. تست های یکنواختی مواد جامع از جمله چگالی ، مقاومت ، سختی ، استحکام خمش و قدرت در نمونه های مختلف انجام شد.