ویژگیهای منحصربهفرد زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلیمتری Semicorex، آن را به بستری ایدهآل برای LEDهای ماوراء بنفش (UV)، آشکارسازهای UV، لیزرهای UV و نسل بعدی دستگاههای RF با قدرت/فرکانس بالا 5G تبدیل میکند. در ارتباطات بیسیم، ویژگیهای زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلیمتری، توسعه دستگاههایی را تسهیل میکند که قادر به مدیریت توان و فرکانسهای بالا برای فناوریهای 5G هستند و انتقال و دریافت سیگنال را افزایش میدهند. علاوه بر این، در زمینههایی مانند مراقبتهای بهداشتی و نظامی، دستگاههای مبتنی بر AlN در فتوتراپی پزشکی برای درمان بیماریهای پوستی، کشف دارو از طریق درمانهای فتودینامیک و فناوریهای ارتباطی امن در هوافضا استفاده میشوند که بر تطبیقپذیری بستر ویفر آلومینیوم نیترید 30 میلیمتری و نقش حیاتی در پیشرفتهای فناوری در سراسر جهان تأکید میکند. بخش های متنوع
زیرلایه های زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلی متری Semicorex دارای خواص قابل توجهی هستند که برای کاربردهای نیمه هادی پیشرفته ضروری است. فاصله باند گسترده آنها دستگاه ها را قادر می سازد در ولتاژها و دماهای بالا کار کنند و در عین حال نشت الکتریکی را به حداقل می رساند که برای الکترونیک قدرت بسیار مهم است. رسانایی حرارتی بالای بستر ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلی متری در مدیریت گرمای تولید شده در دستگاه های پرقدرت نقش اساسی دارد و به طور موثر قابلیت اطمینان و عملکرد دستگاه را افزایش می دهد. علاوه بر این، میدان شکست زیاد زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلیمتری به دستگاههایی اجازه میدهد که میتوانند میدانهای الکتریکی بالا را بدون شکست تحمل کنند، که برای کاربردهایی که نیاز به چگالی توان و کارایی بالا دارند، ایدهآل است.
زیرلایههای زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلیمتری دارای تحرک الکترون بالایی هستند که به دستگاههای الکترونیکی سریعتر با پاسخ فرکانسی بهتر ترجمه میشود. این ویژگی بهویژه در ساخت دستگاههای فرکانس رادیویی (RF) و الکترونیک پرسرعت، جایی که انتقال و پردازش سریع سیگنال مورد نیاز است، مفید است. علاوه بر این، مقاومت در برابر خوردگی و تشعشع زیرلایه ویفر نیترید آلومینیوم 30 میلیمتری، آن را به انتخابی استثنایی برای محیطهای خشن، مانند کاربردهای فضایی، که در آن مواد در معرض گازهای خورنده و سطوح بالای تشعشع قرار دارند، تبدیل میکند. این انعطافپذیری، قابلیت اطمینان و عملکرد طولانیمدت دستگاهها را در شرایط سخت تضمین میکند، و بستر ویفر نیترید آلومینیومی 30 میلیمتری را به بستری بهینه برای دستگاههای الکترونیک نوری و قطعات الکترونیکی با قدرت/فرکانس بالا تبدیل میکند.
ما در حال حاضر محصولات زیرلایه تک کریستال نیترید آلومینیوم با کیفیت بالا را با ابعاد 10x10mm، Φ10mm، Φ15mm، Φ20mm، Φ25.4mm، Φ30mm و Φ50.8mm به مشتریان خود ارائه می دهیم. علاوه بر این، ما بسترهای تک کریستال آلومینیوم نیترید غیرقطبی M-face را در محدوده 10-20 میلی متر نیز عرضه می کنیم. برای نیازهای سفارشی، میتوانیم برشهای پولیش زیرلایه تککریستال نیترید آلومینیوم را از 5 میلیمتر تا 50.8 میلیمتر سفارشی کنیم. این مجموعه گسترده ای از پیشنهادات، نیازهای مشتریان زیادی را برآورده می کند و امکان کاوش در مرزهای فناوری متنوع را فراهم می کند.