چاک الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم

چاک های الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم از نیروهای الکترواستاتیکی برای نگه داشتن ایمن ویفرها در طول فرآیندهای مختلف ساخت نیمه هادی استفاده می کنند. این روش نیاز به گیره های مکانیکی یا سیستم های خلاء را از بین می برد و خطر تولید ذرات و تنش مکانیکی بر ویفرهای ظریف را کاهش می دهد. یکی از مزایای کلیدی چاک های الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم توانایی آنها در ایجاد نیروی الکترواستاتیک بسیار یکنواخت و پایدار در کل سطح ویفر است. این امر تماس ثابت را تضمین می‌کند و از لغزش یا تغییر شکل ویفر در طول پردازش جلوگیری می‌کند، که منجر به بهبود یکنواختی در فیلم‌های رسوب‌شده، ویژگی‌های اچ‌شده و سایر پارامترهای حیاتی می‌شود. این نیروی گیره یکنواخت همچنین اعوجاج ویفر را به حداقل می رساند و منجر به بهبود عملکرد و بازده دستگاه می شود.

در مورد خواص حرارتی آن، رسانایی حرارتی بالای چاک های الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم باعث اتلاف گرما کارآمد در طی فرآیندهای با دمای بالا می شود و از تنش حرارتی جلوگیری می کند و توزیع یکنواخت دما را در سراسر ویفر تضمین می کند. این در کاربردهایی مانند پردازش حرارتی سریع و اچ پلاسما، که در آن گرمایش موضعی می‌تواند بر عملکرد دستگاه تأثیر منفی بگذارد، حیاتی است. به علاوه، فرآیند تولید نیمه هادی اغلب شامل انتقال سریع دما می شود. مقاومت در برابر شوک حرارتی بالای چاک الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم به آن اجازه می دهد تا در برابر این تغییرات دمایی ناگهانی بدون تخریب یا ترک مقاومت کند و از طول عمر و عملکرد قابل اعتماد چاک در استفاده طولانی مدت اطمینان حاصل کند. علاوه بر این، AlN دارای ضریب انبساط حرارتی (CTE) است که نزدیک به ویفرهای سیلیکونی است. این سازگاری تنش ایجاد شده در وافر-چاک را در طول چرخه حرارتی به حداقل می‌رساند و از خم شدن ویفر، اعوجاج و عیوب احتمالی که می‌تواند بر عملکرد و عملکرد دستگاه تأثیر بگذارد، جلوگیری می‌کند.

AlN یک ماده مکانیکی مقاوم با استحکام خمشی بالا و چقرمگی شکست است. این استحکام ذاتی به چاک‌های الکترواستاتیک نیترید آلومینیوم اجازه می‌دهد تا در برابر تنش‌های مکانیکی که در طول تولید با حجم بالا با آن مواجه می‌شوند، مقاومت کنند و از عملکرد ثابت و عمر عملیاتی طولانی‌تر اطمینان حاصل کنند. از سوی دیگر، AlN مقاومت عالی در برابر طیف وسیعی از مواد شیمیایی و پلاسما که معمولاً در پردازش نیمه هادی استفاده می شوند، نشان می دهد. همچنین مقاومت اکسیداسیون بالایی را حتی در دماهای بالا از خود نشان می دهد و تضمین می کند که سطح چاک الکترواستاتیک آلومینیوم نیترید در طول عمر عملیاتی خود بکر و بدون آلودگی باقی بماند.

چاک های الکترواستاتیک آلومینیوم نیترید Semicorex در اندازه ها و ضخامت های مختلف برای سازگاری با قطرهای مختلف ویفر و نیازهای فرآیند موجود است. این سازگاری آنها را برای طیف گسترده ای از کاربردهای تولید نیمه هادی، از تحقیق و توسعه گرفته تا تولید با حجم بالا، مناسب می کند.