In semiconductor fabrication, etching is one of the major steps, along with photolithography and thin-film deposition. It involves removing unwanted materials from the surface of a wafer using chemical or physical methods. This step is carried out after coating, photolithography, and developing. It ......
ادامه مطلببستر SiC می تواند دارای عیوب میکروسکوپی باشد، مانند دررفتگی پیچ رزوه ای (TSD)، دررفتگی لبه رزوه ای (TED)، دررفتگی صفحه پایه (BPD) و موارد دیگر. این عیوب ناشی از انحراف در آرایش اتم ها در سطح اتمی است. بلورهای SiC همچنین ممکن است دارای دررفتگی های ماکروسکوپی مانند سی یا C، میکرولوله، حفره های شش ضلعی......
ادامه مطلب