- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
محصولات
- View as
گرافیت پوشش داده شده با کربن سیلیکون ICP
گرافیت پوشش داده شده با کربن سیلیکون ICP Semicorex، انتخاب ایده آلی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما دارای مقاومت عالی در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان آرام گاز بهینه است.
ادامه مطلبارسال استعلام
سیستم اچینگ پلاسما ICP برای فرآیند PSS
سیستم Etching Plasma Semicorex's ICP را برای فرآیند PSS برای فرآیندهای epitaxy و MOCVD با کیفیت بالا انتخاب کنید. محصول ما به طور خاص برای این فرآیندها مهندسی شده است و مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی ارائه می دهد. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام
صفحه اچینگ پلاسما ICP
صفحه اچینگ پلاسما ICP Semicorex مقاومت بالایی در برابر حرارت و خوردگی برای فرآیندهای جابجایی ویفر و رسوب لایه نازک ایجاد می کند. محصول ما برای مقاومت در برابر دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن طراحی شده است که دوام و طول عمر را تضمین می کند. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام
حامل اچینگ ICP کاربید سیلیکون
به دنبال یک حامل ویفر قابل اعتماد برای فرآیندهای اچینگ هستید؟ نگاهی به حامل اچینگ ICP سیلیکون کاربید Semicorex نداشته باشید. محصول ما برای مقاومت در برابر دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن طراحی شده است که دوام و طول عمر را تضمین می کند. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام
صفحه SiC برای فرآیند اچ کردن ICP
صفحه SiC Semicorex برای فرآیند حکاکی ICP راه حل مناسبی برای نیازهای پردازش شیمیایی در دمای بالا و سخت در رسوب لایه نازک و جابجایی ویفر است. محصول ما دارای مقاومت حرارتی عالی و حتی یکنواختی حرارتی است که ضخامت و مقاومت لایه epi را تضمین می کند. با سطحی تمیز و صاف، روکش کریستالی SiC با خلوص بالا، کارکرد بهینه را برای ویفرهای دست نخورده فراهم می کند.
ادامه مطلبارسال استعلام
حامل اچینگ ICP با پوشش SiC
Semicorex SiC Coated ICP Etching Carrier به طور خاص برای تجهیزات اپیتاکسی با مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا در چین مهندسی شده است. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلند مدت شما در چین شویم.
ادامه مطلبارسال استعلام
