- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
محصولات
- View as
سینی اچینگ پلاسما ICP
سینی اچینگ پلاسما ICP Semicorex به طور خاص برای فرآیندهای کنترل ویفر در دمای بالا مانند epitaxy و MOCVD مهندسی شده است. با مقاومت اکسیداسیون پایدار و در دمای بالا تا 1600 درجه سانتی گراد، حامل های ما پروفیل های حرارتی، الگوهای جریان گاز آرام را ارائه می دهند و از آلودگی یا انتشار ناخالصی ها جلوگیری می کنند.
ادامه مطلبارسال استعلام
سیستم اچینگ پلاسما ICP
حامل SiC Coated Semicorex برای سیستم اچینگ پلاسما ICP یک راه حل قابل اعتماد و مقرون به صرفه برای فرآیندهای جابجایی ویفر در دمای بالا مانند epitaxy و MOCVD است. حامل های ما دارای یک پوشش کریستالی SiC هستند که مقاومت بالایی در برابر حرارت، حتی یکنواختی حرارتی و مقاومت شیمیایی بادوام را ارائه می دهد.
ادامه مطلبارسال استعلام
پلاسمای جفت شده القایی (ICP)
گیرنده پوشش داده شده با کاربید سیلیکون Semicorex برای پلاسمای جفت القایی (ICP) به طور خاص برای فرآیندهای کنترل ویفر در دمای بالا مانند اپیتاکسی و MOCVD طراحی شده است. با مقاومت اکسیداسیون پایدار و در دمای بالا تا 1600 درجه سانتیگراد، حامل های ما پروفیل های حرارتی، الگوهای جریان گاز آرام را تضمین می کنند و از آلودگی یا انتشار ناخالصی ها جلوگیری می کنند.
ادامه مطلبارسال استعلام
نگهدارنده ویفر اچینگ ICP
نگهدارنده ویفر اچینگ ICP Semicorex راه حل مناسبی برای فرآیندهای جابجایی ویفر در دمای بالا مانند اپیتاکسی و MOCVD است. با مقاومت اکسیداسیون پایدار و در دمای بالا تا 1600 درجه سانتیگراد، حامل های ما پروفیل های حرارتی، الگوهای جریان گاز آرام را تضمین می کنند و از آلودگی یا انتشار ناخالصی ها جلوگیری می کنند.
ادامه مطلبارسال استعلام
صفحه حامل اچینگ ICP
صفحه حامل ICP اچینگ Semicorex راه حل مناسبی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما مقاومت در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان گاز آرام را ارائه می دهد. با یک سطح تمیز و صاف، حامل ما برای جابجایی ویفرهای بکر عالی است.
ادامه مطلبارسال استعلام
نگهدارنده ویفر برای فرآیند Etching ICP
نگهدارنده ویفر Semicorex برای فرآیند حکاکی ICP، انتخاب مناسبی برای پردازش ویفر و رسوب لایه نازک است. محصول ما دارای مقاومت عالی در برابر حرارت و خوردگی، حتی یکنواختی حرارتی، و الگوهای جریان آرام گاز بهینه برای نتایج ثابت و قابل اعتماد است.
ادامه مطلبارسال استعلام
