چین اجزای نیمه هادی تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

به عنوان تولید کننده حرفه ای، ما می خواهیم قطعات نیمه هادی را به شما ارائه دهیم. Semicorex شریک شما برای بهبود در پردازش نیمه هادی است. پوشش‌های کاربید سیلیکون ما متراکم، در دمای بالا و مقاوم در برابر مواد شیمیایی هستند که اغلب در کل چرخه تولید نیمه‌رساناها، از جمله پردازش ویفر و ویفر نیمه‌رسانا و ساخت نیمه‌رسانا استفاده می‌شوند.

اجزای پوشش داده شده SiC با خلوص بالا برای فرآیندهای نیمه هادی بسیار مهم هستند. پیشنهاد ما از مواد مصرفی گرافیت برای مناطق گرم رشد کریستال (هیترها، گیره های بوته، عایق)، تا اجزای گرافیت با دقت بالا برای تجهیزات پردازش ویفر، مانند گیرنده های گرافیت با روکش کاربید سیلیکون برای Epitaxy یا MOCVD را شامل می شود.

مزایای فرآیندهای نیمه هادی

مراحل رسوب لایه نازک مانند اپیتاکسی یا MOCVD یا پردازش ویفر مانند اچینگ یا کاشت یونی باید در دمای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن مقاومت کنند. Semicorex ساختار گرافیت روکش شده با کاربید سیلیکون (SiC) با خلوص بالا را تامین می کند، مقاومت حرارتی عالی و مقاومت شیمیایی بادوام، حتی یکنواختی حرارتی برای ضخامت و مقاومت لایه epi ثابت را ارائه می دهد.

درب اتاقک â
درپوش‌های محفظه‌ای که در رشد کریستال و پردازش ویفر استفاده می‌شوند باید دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی سخت را تحمل کنند.

پایان افکتور â
افکتور پایانی دست ربات است که ویفرهای نیمه هادی را بین موقعیت های تجهیزات پردازش ویفر و حامل ها حرکت می دهد.

حلقه های ورودی â
حلقه ورودی گاز با پوشش SiC توسط تجهیزات MOCVD رشد مرکب دارای مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا است که پایداری زیادی در محیط های شدید دارد.

حلقه فوکوس â
حلقه فوکوس با پوشش سیلیکون کاربید تامین می کند Semicorex برای تمیز کردن RTA، RTP یا مواد شیمیایی خشن واقعا پایدار است.

ویفر چاک â
ویفر وکیوم سرامیکی فوق تخت Semicorex از روکش SiC با خلوص بالا در فرآیند جابجایی ویفر استفاده می کند.