زیرلایه Semicorex Si با دقت و قابلیت اطمینان برای مطابقت با استانداردهای دقیق ساخت نیمه هادی طراحی شده است. انتخاب Semicorex به معنای انتخاب بستری است که با دقت ساخته شده است تا عملکرد ثابتی را در همه برنامه ها ارائه دهد. زیرلایه Si ما تحت کنترل کیفی دقیقی قرار میگیرد و حداقل ناخالصیها و نقصها را تضمین میکند و در مشخصات سفارشی برای مطابقت با نیازهای فناوری پیشرفته موجود است.*
زیرلایه Semicorex Si یک جزء حیاتی در ساخت دستگاه های نیمه هادی، سلول های خورشیدی و قطعات مختلف الکترونیکی است. خواص نیمه هادی عالی سیلیکون، همراه با پایداری حرارتی و مکانیکی آن، آن را به متداول ترین ماده بستر مورد استفاده در الکترونیک تبدیل کرده است. با کاربردهایی که طیف وسیعی از فناوریها را در بر میگیرند - مانند مدارهای مجتمع (IC)، فتوولتائیک خورشیدی، و دستگاههای برق - زیرلایه Si نقش اساسی در عملکرد، کارایی و قابلیت اطمینان دستگاههای نیمهرسانا ایفا میکند. بستر Si ما برای برآورده کردن الزامات سختگیرانه الکترونیک مدرن و ارائه یک پایه بهینه برای کاربردهای پیشرفته در فناوری نیمه هادی طراحی شده است.
ویژگی ها و مشخصات
مواد با خلوص بالا:بسترهای Si ما با استفاده از سیلیکون با خلوص بالا تولید می شوند که حداقل ناخالصی هایی را که می تواند بر خواص الکتریکی تأثیر بگذارد، تضمین می کند. این ماده با خلوص بالا رسانایی حرارتی عالی را فراهم می کند و تداخل الکترونیکی ناخواسته را به حداقل می رساند، که در کاربردهای با کارایی بالا بسیار مهم است.
جهت گیری کریستالی بهینه:زیرلایه Si در جهت گیری های کریستالی مختلف از جمله (100)، (110) و (111) موجود است که هر کدام برای کاربردهای مختلف مناسب هستند. به عنوان مثال، جهت (100) به طور گسترده در ساخت CMOS استفاده می شود، در حالی که (111) اغلب برای برنامه های کاربردی با قدرت بالا ترجیح داده می شود. این انتخاب کاربران را قادر می سازد تا بستر را با نیازهای دستگاه خاص تنظیم کنند.
کیفیت و مسطح بودن سطح:دستیابی به سطحی صاف و بدون نقص برای عملکرد مطلوب دستگاه ضروری است. بسترهای Si ما دقیقاً صیقل داده شده و پردازش می شوند تا از زبری سطح کم و مسطح بودن بالا اطمینان حاصل شود. این ویژگیها به رسوب موثر لایه همپایی کمک میکنند و نقص در لایههای بعدی را به حداقل میرسانند.
پایداری حرارتی:خواص حرارتی سیلیکون آن را برای دستگاه هایی که نیاز به عملکرد قابل اعتماد در دماهای مختلف دارند مناسب می کند. زیرلایه Si ما در فرآیندهای با دمای بالا، مانند اکسیداسیون و انتشار، پایداری خود را حفظ میکند و تضمین میکند که میتواند در برابر نیازهای ساخت نیمهرساناهای پیچیده مقاومت کند.
گزینه های سفارشی سازی:ما بسترهای Si را در طیف وسیعی از ضخامت ها، قطرها و سطوح دوپینگ ارائه می دهیم. گزینه های سفارشی سازی به سازندگان اجازه می دهد تا بستر را برای خواص الکتریکی خاص، مانند مقاومت و غلظت حامل، که در تنظیم عملکرد دستگاه های الکترونیکی حیاتی هستند، بهینه کنند.
برنامه های کاربردی
مدارهای مجتمع (IC):زیرلایه Si یک ماده اساسی در تولید آی سی است که پایه ای پایدار و یکنواخت برای دستگاه هایی مانند پردازنده ها، تراشه های حافظه و حسگرها فراهم می کند. خواص الکترونیکی عالی آن امکان کنترل دقیق پارامترهای دستگاه را فراهم می کند که برای بسته بندی متراکم ترانزیستورها در آی سی های مدرن ضروری است.
دستگاه های برق:بسترهای Si اغلب در دستگاه های نیمه هادی قدرت مانند ماسفت ها و IGBT ها مورد استفاده قرار می گیرند، جایی که هدایت حرارتی بالا و استحکام مکانیکی ضروری است. دستگاههای برقی به بسترهایی نیاز دارند که بتوانند ولتاژها و جریانهای بالا را تحمل کنند و زیرلایههای Si ما عملکردی استثنایی در این محیطهای سخت ارائه میدهند.
سلول های فتوولتائیک:سیلیکون متداول ترین ماده مورد استفاده در سلول های فتوولتائیک است که به دلیل کارایی آن در تبدیل نور خورشید به الکتریسیته است. بسترهای Si ما، پایه با خلوص بالا و پایدار مورد نیاز برای کاربردهای سلول خورشیدی را فراهم میکنند، که جذب نور کارآمد و خروجی انرژی بالا را ممکن میسازد، بنابراین به تولید انرژی تجدیدپذیر کمک میکند.
سیستم های میکروالکترومکانیکی (MEMS):دستگاه های MEMS به دلیل پایداری، سهولت ریزماشین کاری و سازگاری با فرآیندهای نیمه هادی مرسوم، اغلب به بسترهای Si متکی هستند. کاربردها در حسگرها، محرکها و دستگاههای میکروسیال از دوام و دقت Si Substrate بهره میبرند.
دستگاه های الکترونیک نوری:برای دیودهای ساطع نور (LED) و دیودهای لیزری، Si Substrate پلت فرمی را ارائه می دهد که با انواع فرآیندهای رسوب لایه نازک سازگار است. خواص حرارتی و الکتریکی آن عملکرد قابل اعتمادی را در کاربردهای اپتوالکترونیکی امکان پذیر می کند.