ویفر سیلیکونی

ویفر سیلیکونی یک برش نازک و دایره‌ای از کریستال سیلیکون است که در ساخت مدارهای مجتمع و سایر ریزدستگاه‌ها استفاده می‌شود. به طور معمول، این ویفرهای سیلیکونی از طریق یک فرآیند دقیق شامل رشد یک شمش کریستالی از سیلیکون با خلوص بالا و سپس برش دقیق آن به دیسک‌های نازک تولید می‌شوند. ویفرهای سیلیکونی به عنوان بستر اساسی که دستگاه های نیمه هادی بر روی آن ساخته می شوند، عمل می کنند.

ویفرهای سیلیکونی Semicorex در اندازه‌های مختلفی تولید می‌شوند که از چند اینچ تا بیش از یک فوت قطر دارند، که رایج‌ترین اندازه‌های آن 100 میلی‌متر (4 اینچ)، 150 میلی‌متر (6 اینچ) و 300 میلی‌متر (12 اینچ) است. انتخاب اندازه ویفر به عواملی مانند کارایی ساخت، بازده دستگاه و ملاحظات هزینه بستگی دارد.

ویفرهای سیلیکونی دارای خواص الکتریکی استثنایی هستند که آنها را برای ساخت دستگاه های نیمه هادی ایده آل می کند. ساختار کریستالی آنها امکان دوپینگ دقیق با ناخالصی ها را برای ایجاد مناطقی با رسانایی الکتریکی متفاوت فراهم می کند که برای تشکیل ترانزیستورها، دیودها و سایر اجزای الکترونیکی ضروری است.