صفحه سیاره ای با پوشش TaC

صفحه سیاره‌ای با پوشش Semicorex TaC به عنوان یک جزء کلیدی در راکتورهای MOCVD عمل می‌کند و طراحی سیاره‌ای را به نمایش می‌گذارد که با جیب‌های ویفری متعددی که در امتداد سطح آن چیده شده‌اند، مشخص می‌شود. این پاکت ها به طور خاص برای قرار دادن ویفرها در طول فاز رشد هر لایه همپایی ایجاد می شوند، ویفرهای بستر را تثبیت می کنند و حرکت بستر را در دمای بالا فرآیند به حداقل می رساند. هندسه پاکت دقیق، قرار دادن ویفر ثابت را فراهم می کند که برای ضخامت یکنواخت لایه های همپایی و سطح یکنواختی عیوب بستر برای همه ویفرهایی که در طول یک فرآیند رشد می کنند، مهم است.

یک جنبه طراحی مهم صفحه سیاره ای، بار دیگر، پراکندگی مهندسی شده حفره های جریان گاز ریز در امتداد سطح صفحه است. این سوراخ ها به دقت طراحی شده و به طور استراتژیک به طور خاص برای اندازه گیری جریان گازهای پیش ساز در راکتور قرار گرفته اند، بنابراین پراکندگی یکنواخت گاز و رسوب یکنواخت در بین هر ویفر حاصل می شود. در هر فرآیند MOCVD، جنبه‌های دینامیک گاز در تعیین کیفیت فیلم، یکنواختی ضخامت و عملکرد کلی دستگاه بسیار مهم است. طراحی سوراخ بهینه شده رویبا پوشش TaCPlanetary Plate تضمین می‌کند که همه ویفرها شرایط فرآیند یکسانی را تجربه می‌کنند، که راهی بهینه برای بهبود عملکرد و تکرارپذیری فراهم می‌کند.

اینپوشش TaC (کاربید تانتالم).عملکرد و عمر صفحه سیاره ای را بیشتر افزایش می دهد. کاربید تانتالم بسیار سخت، از نظر شیمیایی خنثی و رسانای حرارتی است که آن را به یک پوشش عالی برای محیط‌های شدید MOCVD تبدیل می‌کند. در طول اپیتاکسی، اجزای راکتور با دمای بالا، گازهای پیش ساز واکنشی و قرار گرفتن در معرض پلاسما مواجه می شوند. پوشش TaC به عنوان یک مانع قوی در برابر خوردگی، اکسیداسیون، و تولید ذرات عمل می کند تا منجر به افزایش قابل توجهی از عمر صفحه سیاره ای نسبت به یک صفحه بدون پوشش یا پوشش معمولی شود.

طول عمر و دوام صفحه سیاره ای با پوشش TaC آن را به انتخابی مقرون به صرفه برای سیستم های MOCVD تبدیل کرده است. لایه TaC بادوام می تواند در برابر چرخه حرارتی مکرر و قرار گرفتن در معرض گازهای شدید فرآیند مقاومت کند و در عین حال یکپارچگی ساختاری و پایداری عملکرد را در حین کار در بازه های زمانی طولانی حفظ کند.