گیرنده ویفر با پوشش TaC

Semicorex TaC Coated Wafer Susceptor یک جزء حیاتی است که در کوره های رسوب بخار شیمیایی فلز-آلی (MOCVD) برای پردازش نیمه هادی اپیتاکسیال (epi) استفاده می شود. این گیره گرد تخصصی از مواد گرافیت با کیفیت بالا ساخته شده است و دارای پوشش منحصر به فرد کاربید تانتالم (TaC) است.

هدف اولیه از پوشش TaC افزایش عملکرد و دوام گیرنده ویفر با پوشش TaC در طول شرایط سخت فرآیندهای ساخت نیمه هادی است. کاربید تانتالیوم به دلیل سختی استثنایی، نقطه ذوب بالا و مقاومت در برابر سایش و خوردگی شناخته شده است. این ویژگی ها باعث می شود که گیرنده ویفر با پوشش TaC به گزینه ای ایده آل برای محافظت از گیرنده گرافیت زیرین در برابر واکنش های شیمیایی و تنش های فیزیکی که در کوره MOCVD رخ می دهد، تبدیل کند.

TaC Coated Wafer Susceptor با تسهیل رسوب لایه های نازک روی ویفرها نقش حیاتی در رشد همپایی مواد نیمه هادی ایفا می کند. توانایی آن در تحمل دماهای بالا و محیط های شیمیایی خشن برای دستیابی به تولید دقیق و قابل اعتماد دستگاه های نیمه هادی بسیار مهم است.

TaC Coated Wafer Susceptor، با هسته گرافیتی و روکش کاربید تانتالیوم، توزیع یکنواخت و یکنواخت گرما را تضمین می کند و به تکرارپذیری و کیفیت لایه های نیمه هادی رشد یافته در طول فرآیند MOCVD کمک می کند. این ترکیب مواد پیشرفته آن را به یک راه حل قابل اعتماد و بادوام برای تولید نیمه هادی تبدیل می کند که نیازهای سختگیرانه تولید دستگاه های الکترونیکی مدرن را برآورده می کند.