با کوچکتر شدن، نازکتر شدن و پیچیدهتر شدن دستگاههای نیمهرسانا، فناوریهای مدیریت ویفر باید به سطوح بیسابقهای از دقت و پایداری دست یابند. یک چاک سرامیکی متخلخل سفارشی به عنوان یک جزء حیاتی در ساخت نیمه هادی های پیشرفته ظاهر شده است که جذب خلاء یکنواخت، پایداری حرارتی عالی و کنترل صافی عالی را ا......
ادامه مطلبدر تولید تراشه LED، اپیتاکسی MOCVD به عنوان فرآیند اصلی که کارایی نور را تعیین می کند عمل می کند. در طول تولید، گیرندههای گرافیت حامل بسترهای یاقوت کبود یا سیلیکونی تحت سیکلهای حرارتی مکرر در دمای نزدیک به 1000 درجه سانتیگراد در اتمسفرهای خورنده عمل میکنند. بر این اساس، عملکرد گیرندههای گرافیتی......
ادامه مطلبهمانطور که تولید نیمه هادی به سمت اندازه های بزرگتر ویفر، دمای پردازش بالاتر و الزامات کنترل آلودگی سخت تر ادامه می یابد، پدل های Cantilever Carbide سیلیکون به یک جزء ضروری در سیستم های پردازش حرارتی پیشرفته تبدیل شده اند. Semicorex در پدل های کنسول کاربید سیلیکون با کارایی بالا که برای ارائه پایدار......
ادامه مطلبسرامیک آلومینا به عنوان یک سرامیک پیشرفته پیشرو برای کاربردهای نیمه هادی، تعادل مطلوبی بین هزینه، ماشین کاری و عملکرد کلی ایجاد می کند. آنها با داشتن سختی بالا، عایق عالی، مقاومت در برابر خوردگی برجسته و انبساط حرارتی کم، الزامات سختگیرانه برای قطعات بزرگ و با مقاومت بالا در تجهیزات بسته بندی و ساخت......
ادامه مطلبدر می 2026، NVIDIA تصمیم خود را برای کنار گذاشتن کامل فلز مایع در استاندارد Vera Rubin (1800-2000W TDP) نهایی کرد و برای تولید انبوه به پدهای گرافنی با رسانایی حرارتی بالا روی آورد. نسخه فوق پیشرفته (2500-2850W) محلول شدید فلز مایع + صفحه سرد میکروکانال را حفظ خواهد کرد و رسماً در Q3 وارد تولید انبو......
ادامه مطلبصنعت نیمه هادی به تقاضای دقیق تر، محیط های پردازش تمیزتر و راندمان بیشتر تولید ادامه می دهد. از آنجایی که اندازه ویفر افزایش مییابد و تحمل فرآیند سختتر میشود، روشهای سنتی نگهداری ویفر اغلب برای برآوردن نیازهای تولید مدرن با مشکل مواجه میشوند. اینجاست که چاک های آلومینا متخلخل به عنوان یک راه حل......
ادامه مطلب