تولید نیمه هادی پیشرفته شامل مراحل متعددی از فرآیند، از جمله رسوب لایه نازک، فوتولیتوگرافی، اچینگ، کاشت یون، پرداخت مکانیکی شیمیایی است. در طی این فرآیند، حتی ایرادات کوچک در فرآیند ممکن است تأثیر مخربی بر عملکرد و قابلیت اطمینان تراشه های نیمه هادی نهایی داشته باشد. بنابراین، حفظ ثبات و ثبات فرآیند......
ادامه مطلبصفحات گرافیتی با خلوص بالا، مواد کربنی صفحهای هستند که از مواد اولیه درجه یک از جمله کک نفتی، پیچ کک یا گرافیت طبیعی با خلوص بالا از طریق یک سری فرآیندهای تولید مانند کلسینه کردن، ورز دادن، شکلدهی، پخت، گرافیتسازی در دمای بالا (بالای 2800 درجه سانتیگراد) و خالصسازی ساخته میشوند. مزیت اصلی صفحات......
ادامه مطلبمواد دو بعدی نوید پیشرفتهای انقلابی در الکترونیک و فوتونیک را میدهند، اما بسیاری از امیدوارکنندهترین کاندیداها در عرض چند ثانیه پس از قرار گرفتن در معرض هوا تخریب میشوند و عملاً برای تحقیق یا ادغام با فناوریهای عملی مناسب نیستند. دی هالیدهای فلزات واسطه یک کلاس بسیار جذاب و در عین حال چالش بران......
ادامه مطلبفرآیندهای رسوب بخار شیمیایی تحت فشار (LPCVD) تکنیک های CVD هستند که مواد لایه نازک را بر روی سطوح ویفر در محیط های کم فشار رسوب می کنند. فرآیندهای LPCVD به طور گسترده در فنآوریهای رسوبگذاری مواد برای ساخت نیمهرسانا، الکترونیک نوری و سلولهای خورشیدی لایه نازک استفاده میشوند.
ادامه مطلبکاربید تانتالم (TaC) یک ماده سرامیکی با دمای فوق العاده بالا است. سرامیک های با دمای فوق العاده بالا (UHTCs) عموماً به مواد سرامیکی با نقطه ذوب بیش از 3000 درجه سانتیگراد اشاره دارند و در محیط های با دمای بالا و خورنده (مانند محیط های اتم اکسیژن) بالای 2000 درجه سانتیگراد مانند ZrC، HfC، TaC، HfB2، ......
ادامه مطلبکامپوزیت های کربن سرامیک یکی از سریع ترین زمینه های رشد تقاضا را در بخش تولید تجهیزات پیشرفته در سال های اخیر داشته اند. اساساً، کامپوزیتهای کربن-سرامیک یک فاز سرامیکی سیلیسید سیلیکونی را وارد یک ماتریس کربن تقویتشده با فیبر کربن میکنند و یک ساختار ترکیبی چند فازی از "کربن + سرامیک" را از طریق رو......
ادامه مطلب