محصولات

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon یک دارایی ضروری در دنیای epitaxy است که راه حلی قوی برای چالش های ناشی از دماهای بالا، گازهای واکنش پذیر و الزامات خلوص شدید ارائه می دهد.**

تعهد Semicorex به کیفیت و نوآوری در بخش پوشش SiC MOCVD مشهود است. با فعال کردن اپیتاکسی SiC قابل اعتماد، کارآمد و با کیفیت، نقشی حیاتی در ارتقای قابلیت‌های نسل بعدی دستگاه‌های نیمه‌رسانا ایفا می‌کند.**

Semicorex SiC MOCVD Inner Segment یک ماده مصرفی ضروری برای سیستم های رسوب بخار شیمیایی فلزی-آلی (MOCVD) است که در تولید ویفرهای اپیتاکسیال کاربید سیلیکون (SiC) استفاده می شود. این دقیقاً برای مقاومت در برابر شرایط سخت اپیتاکسی SiC طراحی شده است و عملکرد فرآیند بهینه و لایه‌های SiC با کیفیت بالا را تضمین می‌کند.**

چاک سرامیکی Semicorex SiC یک جزء بسیار تخصصی است که برای استفاده در فرآیندهای اپیتاکسیال نیمه هادی طراحی شده است، جایی که نقش آن به عنوان یک چاک خلاء بسیار مهم است. با تعهد خود به ارائه محصولات با کیفیت بالا با قیمت های رقابتی، آماده هستیم تا شریک بلندمدت شما در چین باشیم.*

سر دوش Semicorex CVD SiC یک جزء ضروری در فرآیندهای CVD مدرن برای دستیابی به لایه‌های نازک با کیفیت بالا و یکنواخت با راندمان و توان عملیاتی بهبود یافته است. کنترل برتر جریان گاز سر دوش CVD SiC، کمک به کیفیت فیلم و طول عمر طولانی آن را برای کاربردهای تولید نیمه هادی ضروری می کند.**

Semicorex SiC ALD Susceptor مزایای متعددی را در فرآیندهای ALD ارائه می‌کند، از جمله پایداری در دمای بالا، افزایش یکنواختی و کیفیت فیلم، بهبود راندمان فرآیند، و افزایش طول عمر گیرنده. این مزایا SiC ALD Susceptor را به ابزاری ارزشمند برای دستیابی به لایه‌های نازک با کارایی بالا در کاربردهای مختلف تبدیل می‌کند.**