محصولات

وقتی صحبت از فرآیندهای جابجایی ویفر مانند اپیتاکسی و MOCVD می شود، پوشش SiC با دمای بالا برای محفظه های اچ پلاسما Semicorex بهترین انتخاب است. حامل های ما به لطف پوشش کریستالی SiC ما، مقاومت حرارتی عالی، حتی یکنواختی حرارتی، و مقاومت شیمیایی بادوام را ارائه می دهند.

صفحه SiC Semicorex برای فرآیند حکاکی ICP راه حل مناسبی برای نیازهای پردازش شیمیایی در دمای بالا و سخت در رسوب لایه نازک و جابجایی ویفر است. محصول ما دارای مقاومت حرارتی عالی و حتی یکنواختی حرارتی است که ضخامت و مقاومت لایه epi را تضمین می کند. با سطحی تمیز و صاف، روکش کریستالی SiC با خلوص بالا، کارکرد بهینه را برای ویفرهای دست نخورده فراهم می کند.

Semicorex SiC Coated ICP Etching Carrier به طور خاص برای تجهیزات اپیتاکسی با مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا در چین مهندسی شده است. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلند مدت شما در چین شویم.

حامل های ویفر که در رشد اپیکسیال و پردازش ویفر استفاده می شوند باید دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی سخت را تحمل کنند. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier به طور خاص برای این کاربردهای تجهیزات اپیتاکسی سخت مهندسی شده است. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلند مدت شما در چین شویم.

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth محصولی با کارایی بالا است که برای ارائه عملکرد ثابت و قابل اعتماد در مدت زمان طولانی طراحی شده است. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی آن را به انتخابی ایده آل برای رشد لایه های همپایی با کیفیت بالا بر روی تراشه های ویفر تبدیل کرده است. قابلیت سفارشی سازی و مقرون به صرفه بودن آن، آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.

اگر به دنبال یک گیره گرافیتی با کارایی بالا برای استفاده در کاربردهای تولید نیمه هادی هستید، گیره بشکه ای گرافیتی پوشش داده شده Semicorex SiC انتخاب ایده آلی است. رسانایی حرارتی استثنایی و خواص توزیع گرما آن را به گزینه ای مناسب برای عملکرد قابل اعتماد و پایدار در محیط های با دمای بالا و خورنده تبدیل می کند.