لوله فرآیند SiC

SiC Process Tube یک راکتور لوله ای شکل در عملیات حرارتی برای پردازش ویفر است. Semicorex متعهد به ارائه محصولات با کیفیت با قیمت های رقابتی است، ما مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما در چین شویم.

ارسال استعلام

توضیحات محصول

لوله فرآیند Semicorex SiC (سیلیکون کاربید) یک جزء تخصصی است که در فرآیندهای عملیات حرارتی ویفر، به ویژه در کاربردهایی که به دماهای بالا، اتمسفرهای خورنده یا هر دو نیاز دارند، استفاده می شود. طراحی شده است تا محیطی حفاظتی و کنترل شده برای ویفرهای نیمه هادی در طی عملیات حرارتی یا پردازش حرارتی فراهم کند.

لوله فرآیند به دقت مهندسی شده است تا یک محفظه مهر و موم شده ایجاد کند که در آن ویفرها برای عملیات حرارتی قرار می گیرند. به عنوان یک مانع عمل می کند و از تماس مستقیم ویفرها با محیط اطراف جلوگیری می کند. این جداسازی برای حفظ خلوص فضای پردازش و محافظت از ویفرها از آلودگی بسیار مهم است.

در داخل لوله فرآیند SiC، عملیات حرارتی ویفر انجام می شود. این می تواند شامل فرآیندهای مختلفی مانند بازپخت، اکسیداسیون، انتشار و سایر عملیات حرارتی مورد نیاز برای اصلاح خواص مواد ویفر باشد. خواص لوله، مانند رسانایی حرارتی بالا و مقاومت در برابر حملات شیمیایی، به اطمینان از توزیع یکنواخت دما و محافظت از ویفرها کمک می کند.

لوله های فرآیند SiC اجزای حیاتی در فرآیندهای عملیات حرارتی ویفر هستند. مقاومت در برابر دمای بالا، بی اثری شیمیایی و توانایی ایجاد یک محیط کنترل شده، اجرای موفقیت آمیز مراحل پردازش حرارتی را تضمین می کند که منجر به تولید ویفرهای نیمه هادی با کیفیت بالا می شود.