صفحه آسیاب ویفر SiC

صفحه آسیاب ویفر SiCبخش مهمی از پردازش سطح ویفر نیمه هادی است. با استفاده از فرمول دقیق میکروپودر کاربید سیلیکون و فرآیند پخت بدون فشار پیشرفته، صفحه آسیاب ویفر SiC آسیاب کارآمد و تکمیل دقیق را بر روی سطوح ویفر ارائه می‌کند و اساساً از پایداری و عملکرد فرآیندهای بعدی تولید نیمه‌رسانا محافظت می‌کند.

با تکمیل دقیق و کارآمد سطح ویفر به عنوان عملکرد اصلی، صفحه آسیاب ویفر SiC به اصطکاک پایدار و قابل کنترل با سطح ویفر دست می یابد. هنگامی که با سیالات سنگ زنی یا صیقل دهنده با نسبت های خاص ترکیب می شود، به طور هم افزایی برای از بین بردن عیوب سطحی مختلف ناشی از فرآیندهای اولیه، مانند خرد شدن، ریزترک ها و فرزهای لبه عمل می کند. همچنین می‌تواند به کنترل دقیق سطح میکرونی بر روی ضخامت ویفر و تغییرات ضخامت کل (TTV) دست یابد، بنابراین یک بستر ویفر با کیفیت بالا با کیفیت سطح عالی و پارامترهای ابعادی پایدار برای فرآیندهای کلیدی بعدی در تولید تراشه مانند فوتولیتوگرافی و کاشت یون ارائه می‌کند.

عملکرد اولیه:

1.سختی فوق العاده

2. استحکام خمشی بالا و مدول الاستیک.

3. ضریب انبساط حرارتی برتر.

4. هدایت حرارتی فوق العاده.

5. مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی عالی.

Semicorex خدمات سفارشی رده بالایی را به مشتریان گرامی ارائه می دهد. Semicorex با استفاده از مراکز ماشینکاری پیشرفته CNC، مواد کاربید سیلیکون را با دقت و دقیق پردازش می کند تا صفحه سنگ زنی ویفر SiC را با ابعاد خاص متناسب با مشخصات مشتری ایجاد کند. به منظور ارائه خدمات به مشتریان با محصولات با کیفیت بالا، صفحه سنگ زنی ویفر Semicorex SiC باید قبل از خروج از کارخانه تحت بازرسی های کیفی دقیق مانند دقت ابعاد، استحکام، سختی و سایر تست های عملکرد قرار گیرد.