خلاء کاربید سیلیکون چاک

خلاء کاربید سیلیکون Semicorex Carbide Chuck بخش مهمی از تولید نیمه هادی برای فرآیندهای نیاز به دقت بالا و آلودگی کم است. چاک های خلاء از سرامیک های کاربید متخلخل سیلیکون متخلخل بالا ساخته شده و استحکام مکانیکی عالی ، هدایت حرارتی و عدم تحرک شیمیایی را ارائه می دهند و یک ساختار منافذ دقیق کنترل شده برای احتباس خلاء قابل اعتماد دارند. خلاء کاربید سیلیکون یک دستگاه جذب کاربردی است که از یک ماده سرامیکی کاربید سیلیکونی (SIC) ساخته شده است ، که به فشار منفی خلاء ، جذب الکترواستاتیک یا بستن مکانیکی متکی است تا درک پایدار قطعه کار را فراهم کند. چاک های خلاء در نیمه هادی ها ، فتوولتائیک ها ، تولید دقیق و سایر برنامه های کاربردی که تقاضای فوق العاده ای برای مقاومت در برابر دمای بالا ، مقاومت در برابر سایش و پاکیزگی دارند ، استفاده می کنند.

پایهچاکیک ماده SIC متخلخل است که دارای سطح هوا قابل پیش بینی در سطح آن است. این بدان معنی است که می توان با خیال راحت یک ویفر را بدون بستن مکانیکی جذب کرد و بنابراین پتانسیل آسیب جسمی یا آلودگی نمونه را غیرممکن کرد. تخلخل مواد به طور محکم کنترل می شود - به طور معمول دارای تخلخل 35-40 ٪ - برای توزیع مناسب خلاء بلکه همچنین برآورده کردن نیازهای ساختاری برای دوچرخه سواری حرارتی و مکانیکی بادوام.

خلاء ویفرمعمولاً از یک سطح سخت با بسیاری از سوراخ ها یا کانال های کوچک روی سطح ساخته می شوند. از طریق این سوراخ های کوچک ، چاک می تواند به پمپ خلاء متصل شود که باعث ایجاد اثر خلاء می شود. هنگامی که ویفر روی چاک قرار می گیرد ، پمپ خلاء روشن می شود و هوا از طریق سوراخ های کوچک کشیده می شود و خلاء بین ویفر و چاک ایجاد می شود. این اثر خلاء ، مکش کافی را برای اتصال محکم ویفر به سطح چاک ایجاد می کند.

سطوح سرامیکی اغلب در برنامه هایی که نیاز به خلوص بالا و ثبات شیمیایی دارند استفاده می شود. سرامیک ها موادی هستند که توسط همجوشی درجه حرارت بالا از مواد معدنی تولید می شوند. به طور کلی ، سرامیک ها عایق های الکتریکی یا نیمه هادی هستند و در برابر تجزیه حرارتی ، فرسایش و آسیب مقاومت بالایی دارند.

Semicorex خلاء کاربید سیلیکون سفارشی را به مشخصات مشتری برای مواردی مانند ابعاد ، تخلخل ، سطح سطح و الگوهای مربوط به کانال های خلاء می سازد. در نتیجه قابلیت های ساخت و تمیز اتاق ما ، ما بهترین ها را در ذرات کم و تمیز کردن ذرات ارائه می دهیم تا در مورد نیازهای پاکیزگی کلیه فاب های نیمه هادی و تولید کنندگان تجهیزات را در خود جای دهد.

ما می توانیم برای هر ویفر اندازه ، از 2 اینچ تا 12 اینچی ویفر ، چاک درست کنیم و سازگار شویم تا چاک را در مجموعه ای از تجهیزات پردازش ویفر ادغام کنیم. این می تواند برای فرآیندهای جلویی و/یا فرآیندهای پشتی استفاده شود ، و باعث می شود خلاء SIC به یک وسیله اقتصادی ، دقیق ، پایدار و بدون آلودگی از پشتیبانی ویفر در گردش کار نیمه هادی تبدیل شود.

خلاء کاربید سیلیکون چاک ابزاری اساسی در ساخت نیمه هادی امروز است و بهترین مواد و مهندسی را ترکیب می کند. قابلیت اطمینان بادوام و پایبند از طریق افراط های حرارتی و شیمیایی ، آن را به پشتیبانی کاملی در کاربردهای فرآیند شامل ، اپیلاسیون ، نازک شدن ، تمیز کردن و RTA تبدیل می کند. با تهیه خلاء کاربید سیلیکون خود از طریق نیمه نیمه ، از بهترین خلوص مواد ، راه حل های سفارشی و عملکرد قابل اعتماد برای نتایج برتر در تمام خطوط پردازش ویفر خود اطمینان حاصل می کنید.