گیرنده MOCVD 3x2

Semicorex MOCVD 3x2" Susceptor با استفاده از گرافیت های فوق خالص ساخته شده است که تحت یک فرآیند پوشش دقیق با کاربید سیلیکون (SiC) قرار می گیرد. این پوشش SiC چندین عملکرد حیاتی را انجام می دهد که مهمترین آنها انتقال حرارت فوق العاده کارآمد به زیرلایه است. انتقال حرارت کارآمد برای دستیابی به توزیع یکنواخت دما در سراسر بستر بسیار مهم است، در نتیجه از رسوب لایه نازک همگن و با کیفیت بالا، که در ساخت دستگاه های نیمه هادی حیاتی است، اطمینان حاصل می شود.

یکی از ملاحظات کلیدی در طراحی MOCVD 3x2 '' Susceptor ضریب انبساط حرارتی (CTE) سازگاری بین بستر گرافیت و پوشش کاربید سیلیکون است. خواص انبساط حرارتی گرافیت فوق خالص ما به دقت با کاربید سیلیکون مطابقت دارد. این سازگاری خطر تنش‌های حرارتی و تغییر شکل بالقوه را در طول چرخه‌های دمای بالا ذاتی فرآیند MOCVD به حداقل می‌رساند. حفظ یکپارچگی سازه تحت تنش حرارتی برای عملکرد ثابت و قابلیت اطمینان ضروری است، در نتیجه احتمال نقص در ویفرهای نیمه هادی کاهش می یابد.

علاوه بر سازگاری حرارتی، گیرنده MOCVD 3x2 اینچی برای نشان دادن بی اثری شیمیایی قوی هنگام قرار گرفتن در معرض مواد شیمیایی پیش ساز که معمولاً در فرآیندهای MOCVD استفاده می شوند، طراحی شده است. این بی‌اثری برای جلوگیری از واکنش‌های شیمیایی بین گیرنده و پیش‌سازها، که می‌تواند منجر به آلودگی شود و بر خلوص و کیفیت فیلم‌های رسوب‌شده تأثیر منفی بگذارد، حیاتی است. با اطمینان از سازگاری شیمیایی، susceptor به حفظ یکپارچگی لایه های نازک و دستگاه های نیمه هادی کلی کمک می کند.

فرآیند تولید سوسپتور Semicorex MOCVD 3x2 اینچ شامل ماشینکاری با دقت بالا می باشد و تضمین می کند که هر واحد استانداردهای دقیق کیفیت و دقت ابعاد را برآورده می کند. هر susceptor تحت یک بررسی جامع سه بعدی قرار می گیرد تا دقت و انطباق آن با مشخصات طراحی را تأیید کند. این فرآیند کنترل کیفیت دقیق تضمین می‌کند که لایه‌ها به طور ایمن و یکنواخت نگه داشته می‌شوند، که برای رسیدن به یکنواخت شدن رسوب در سطح ویفر بسیار مهم است. یکنواختی در رسوب گذاری برای عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه های نیمه هادی نهایی بسیار مهم است.

راحتی کاربر یکی دیگر از سنگ بنای طراحی Susceptor 3x2 اینچی MOCVD است. سوسپتور برای تسهیل بارگیری و تخلیه آسان زیرلایه ها طراحی شده است که به طور قابل توجهی کارایی عملیاتی را افزایش می دهد. این سهولت جابجایی نه تنها فرآیند تولید را سرعت می بخشد، بلکه خطر آسیب به بستر را در حین بارگیری و تخلیه به حداقل می رساند، در نتیجه عملکرد کلی را بهبود می بخشد و هزینه های مربوط به شکستن ویفر و عیوب را کاهش می دهد.

علاوه بر این، MOCVD 3x2 اینچ Susceptor مقاومت استثنایی در برابر اسیدهای قوی از خود نشان می دهد که اغلب در طی عملیات تمیز کردن برای حذف باقی مانده ها و آلاینده ها استفاده می شود. این مقاومت اسیدی تضمین می‌کند که گیرنده یکپارچگی ساختاری و ویژگی‌های عملکردی خود را در چندین چرخه تمیز کردن حفظ می‌کند. در نتیجه، طول عمر عملیاتی susceptor افزایش می‌یابد که به کاهش هزینه کل مالکیت و تضمین عملکرد ثابت در طول زمان کمک می‌کند.

به طور خلاصه، MOCVD 3x2'' Susceptor توسط Semicorex یک جزء بسیار پیچیده و پیشرفته است که مزایای زیادی از جمله راندمان انتقال حرارت عالی، سازگاری حرارتی و شیمیایی، ماشین‌کاری با دقت بالا، طراحی کاربرپسند و اسید قوی را ارائه می‌دهد. مقاومت این ویژگی ها در مجموع آن را به ابزاری ضروری در فرآیند تولید نیمه هادی تبدیل می کند و تولید ویفرهای نیمه هادی با کیفیت بالا، قابل اعتماد و کارآمد را تضمین می کند. سازندگان نیمه هادی با ادغام Susceptor پیشرفته MOCVD 3x2 در فرآیندهای خود، می توانند بازدهی بالاتر، عملکرد دستگاه بهتر و چرخه تولید مقرون به صرفه تری به دست آورند.