> اخبار > اخبار صنعت

اخبار صنعت

Infineon اولین ویفر 300 میلی متری قدرت GaN جهان را رونمایی کرد

اخیراً، Infineon Technologies توسعه موفقیت آمیز اولین فناوری ویفر گالیوم نیترید (GaN) با قدرت 300 میلی متری جهان را اعلام کرد.

ادامه مطلب

تولید سیلیکون تک کریستالی

سه روش اصلی مورد استفاده در تولید سیلیکون تک کریستالی عبارتند از روش Czochralski (CZ)، روش Kyropoulos و روش Float Zone (FZ).

ادامه مطلب

اکسیداسیون در پردازش نیمه هادی

فرآیندهای اکسیداسیون با ایجاد یک لایه محافظ بر روی ویفر که به عنوان لایه اکسید شناخته می شود، نقش مهمی در جلوگیری از چنین مشکلاتی ایفا می کند که به عنوان یک مانع بین مواد شیمیایی مختلف عمل می کند.

ادامه مطلب

نیترید سیلیکون چیست؟

نیترید سیلیکون (Si3N4) یک ماده کلیدی در توسعه سرامیک های ساختاری پیشرفته با دمای بالا است.

ادامه مطلب

درک تفاوت های اچینگ بین ویفرهای سیلیکون و کاربید سیلیکون

فرآیند اچینگ: سیلیکون در مقابل سیلیکون کاربید

ادامه مطلب

چاک الکترواستاتیک (ESC) چیست؟

در تولید نیمه هادی، دقت و پایداری فرآیند اچینگ از اهمیت بالایی برخوردار است. یکی از عوامل مهم در دستیابی به اچینگ با کیفیت بالا، اطمینان از صاف بودن کامل ویفرها در سینی در طول فرآیند است.

ادامه مطلب

<...9 10 11 12 13...29 >