- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
اخبار
سی سی سی ضخیم CVD با خلوص بالا: بینش فرآیند برای رشد مواد
لایه های ضخیم کاربید سیلیکون (SiC) با خلوص بالا، معمولاً بیش از 1 میلی متر، اجزای حیاتی در کاربردهای مختلف با ارزش بالا، از جمله ساخت نیمه هادی ها و فن آوری های هوافضا هستند. این مقاله به فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) برای تولید چنین لایه‌هایی می‌پردازد، پارامترهای فرآیند کلیدی، ویژگی‌های مواد و کا......
ادامه مطلب
سیلیکون تک کریستالی در مقابل سیلیکون پلی کریستالی
سیلیکون تک کریستال و سیلیکون پلی کریستالی هر کدام مزایای منحصر به فرد و سناریوهای قابل اجرا خود را دارند. سیلیکون تک کریستال به دلیل خواص الکتریکی و مکانیکی عالی برای محصولات الکترونیکی با کارایی بالا و میکروالکترونیک مناسب است. از سوی دیگر، سیلیکون پلی کریستالی به دلیل هزینه کم و راندمان تبدیل فوتو......
ادامه مطلب
بستر و اپیتاکسی
در فرآیند تهیه ویفر، دو پیوند اصلی وجود دارد: یکی آماده سازی بستر، و دیگری اجرای فرآیند همپایی. بستر، ویفری که با دقت از مواد تک کریستال نیمه هادی ساخته شده است، می تواند مستقیماً در فرآیند تولید ویفر به عنوان پایه ای برای تولید دستگاه های نیمه هادی قرار داده شود، یا عملکرد را از طریق فرآیند همپایی ......
ادامه مطلب
درک رسوب بخار شیمیایی (CVD): مروری جامع
رسوب بخار شیمیایی (CVD) یک تکنیک رسوب لایه نازک همه کاره است که به طور گسترده در صنعت نیمه هادی برای ساخت لایه های نازک با کیفیت بالا و منسجم بر روی بسترهای مختلف استفاده می شود. این فرآیند شامل واکنش های شیمیایی پیش سازهای گازی بر روی سطح زیرلایه گرم شده است که منجر به تشکیل یک لایه نازک جامد می شو......
ادامه مطلب
ویفر سیلیکونی
ماده سیلیکون یک ماده جامد با خواص الکتریکی نیمه هادی خاص و پایداری فیزیکی است و پشتیبانی از بستر را برای فرآیند تولید مدار مجتمع بعدی فراهم می کند. این یک ماده کلیدی برای مدارهای مجتمع مبتنی بر سیلیکون است. بیش از 95 درصد از دستگاه های نیمه هادی و بیش از 90 درصد از مدارهای مجتمع در جهان بر روی ویفره......
ادامه مطلب
