به عنوان نماینده مواد نیمه هادی نسل سوم، کاربید سیلیکون (SiC) دارای شکاف باند وسیع، رسانایی حرارتی بالا، میدان الکتریکی با شکست بالا و تحرک الکترون بالا است که آن را به یک ماده ایده آل برای دستگاه های ولتاژ بالا، فرکانس بالا و توان بالا تبدیل می کند. این به طور موثر بر محدودیت های فیزیکی دستگاه های ......
ادامه مطلبپیوند ویفر یک فناوری مهم در تولید نیمه هادی است. از روش های فیزیکی یا شیمیایی برای اتصال دو ویفر صاف و تمیز به یکدیگر برای دستیابی به عملکردهای خاص یا کمک به فرآیند تولید نیمه هادی استفاده می کند. این فناوری برای ارتقای توسعه فناوری نیمه هادی به سمت عملکرد بالا، کوچک سازی و یکپارچه سازی است و به......
ادامه مطلبکاربید سیلیکون تبلور مجدد یک سرامیک با کارایی بالا است که از ترکیب ذرات SiC از طریق مکانیسم تبخیر-تراکم برای تشکیل یک بدنه متخلخل فاز جامد قوی تشکیل شده است. قابل توجه ترین ویژگی آن این است که هیچ کمکی برای پخت اضافه نمی شود و محصول نهایی تقریباً کاربید سیلیکون خالص است که به آن عملکرد بسیار عالی در......
ادامه مطلبدر تولید تراشه، فوتولیتوگرافی و اچ دو مرحله نزدیک به هم هستند. فوتولیتوگرافی قبل از اچینگ انجام می شود، جایی که الگوی مدار با استفاده از مقاومت نوری بر روی ویفر ایجاد می شود. سپس اچ کردن لایههای فیلمی را که توسط فتوریست پوشانده نشدهاند حذف میکند و انتقال الگو از ماسک به ویفر را تکمیل میکند و برا......
ادامه مطلب