Semicorex برای ابزارهای نیمهساخت OEM و اجزای کنترل ویفر با تمرکز بر لایههای کاربید سیلیکون در صنایع نیمهرسانا، سرامیکهای نیمهرسانا ارائه میکند. ما سال هاست که تولید کننده و تامین کننده نیمه هادی حامل ویفر بوده ایم. نیمه هادی حامل ویفر ما مزیت قیمت خوبی دارد و بیشتر بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهد. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلندمدت شما در چین شویم.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex یک تولید کننده و تامین کننده سیلیکون کاربید Epitaxy Susceptor در مقیاس بزرگ در چین است. ما بر روی صنایع نیمه هادی مانند لایه های کاربید سیلیکون و نیمه هادی اپیتاکسی تمرکز می کنیم. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما شویم.
ادامه مطلبارسال استعلامایدهآل برای اپیتاکسی گرافیت و فرآیند جابجایی ویفر، Semicorex فوقالعاده خالص سیلیکون اپیتاکسیال Susceptor حداقل آلودگی را تضمین میکند و عملکرد فوقالعاده طولانی را ارائه میدهد. محصولات ما مزیت قیمت خوبی دارند و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهند. ما مشتاقانه منتظریم تا شریک بلندمدت شما در چین شویم.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex تولید کننده و تامین کننده پیشرو MOCVD Susceptor با پوشش SiC است. محصول ما به طور ویژه برای صنایع نیمه هادی طراحی شده است تا لایه اپیتاکسیال روی تراشه ویفر رشد کند. حامل گرافیت با روکش سیلیکون کاربید با خلوص بالا به عنوان صفحه مرکزی در MOCVD با طراحی چرخ دنده یا حلقه ای شکل استفاده می شود. susceptor ما به طور گسترده در تجهیزات MOCVD استفاده می شود و از مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا و پایداری عالی در محیط های شدید اطمینان می دهد.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex یک تولید کننده و تامین کننده گیره گرافیت با پوشش سیلیکون کاربید در چین در مقیاس بزرگ است. ما بر روی صنایع نیمه هادی مانند لایه های کاربید سیلیکون و نیمه هادی اپیتاکسی تمرکز می کنیم. گیرنده گرافیتی با پوشش SiC ما برای MOCVD مزیت قیمت خوبی دارد و بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا را پوشش می دهد. ما مشتاقانه منتظر هستیم که شریک طولانی مدت شما شویم.
ادامه مطلبارسال استعلامSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth محصولی با کارایی بالا است که برای ارائه عملکرد ثابت و قابل اعتماد در مدت زمان طولانی طراحی شده است. مشخصات حرارتی یکنواخت، الگوی جریان گاز آرام و جلوگیری از آلودگی، آن را به انتخابی ایدهآل برای رشد لایههای اپیتاکسیال با کیفیت بالا بر روی تراشههای ویفر تبدیل کرده است. قابلیت سفارشی سازی و مقرون به صرفه بودن آن، آن را به یک محصول بسیار رقابتی در بازار تبدیل کرده است.
ادامه مطلبارسال استعلام