گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی

می توانید از خرید گیره های اپیتاکسی سیلیکونی از کارخانه ما مطمئن باشید. گیرنده اپیتاکسی سیلیکونی Semicorex یک محصول با کیفیت و خلوص بالا است که در صنعت نیمه هادی برای رشد همپایی تراشه ویفر استفاده می شود. محصول ما دارای یک تکنولوژی پوشش برتر است که تضمین می کند پوشش روی تمام سطوح وجود دارد و از کنده شدن آن جلوگیری می کند. این محصول در دماهای بالا تا 1600 درجه سانتی گراد پایدار است و برای استفاده در محیط های شدید مناسب است.

ارسال استعلام

توضیحات محصول

گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی ما توسط رسوب بخار شیمیایی CVD در شرایط کلرزنی با دمای بالا ساخته می شوند و خلوص بالا را تضمین می کنند. سطح محصول متراکم، با ذرات ریز و سختی بالا است که آن را در برابر خوردگی در برابر اسید، قلیایی، نمک و معرف های آلی مقاوم می کند.
محصول ما برای دستیابی به بهترین الگوی جریان گاز آرام طراحی شده است که یکنواختی پروفیل حرارتی را تضمین می کند. گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی ما از هرگونه آلودگی یا انتشار ناخالصی در طول فرآیند رشد اپیتاکسی جلوگیری می کند و نتایج با کیفیت بالا را تضمین می کند.
در Semicorex، ما بر ارائه محصولات با کیفیت بالا و مقرون به صرفه به مشتریان خود تمرکز می کنیم. گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی ما دارای مزیت قیمتی هستند و به بسیاری از بازارهای اروپا و آمریکا صادر می شوند. هدف ما این است که با ارائه محصولات با کیفیت ثابت و خدمات استثنایی به مشتریان، شریک طولانی مدت شما باشیم.

پارامترهای گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی

مشخصات اصلی پوشش CVD-SIC
ویژگی های SiC-CVD
ساختار کریستالی	فاز FCC Î²
تراکم	g/cm³	3.21
سختی	سختی ویکرز	2500
اندازه دانه	¼ دقیقه	2 تا 10
خلوص شیمیایی	%	99.99995
ظرفیت گرمایی	J·kg-1 ·K-1	640
دمای تصعید	℃	2700
قدرت فلکسورال	MPa (RT 4 نقطه ای)	415
مدول یانگ	Gpa (خم 4pt، 1300)	430
انبساط حرارتی (C.T.E)	10-6K-1	4.5
رسانایی گرمایی	(W/mK)	300

پارامترهای گیرنده های اپیتاکسی سیلیکونی

- از لایه برداری خودداری کنید و از پوشش روی تمام سطوح اطمینان حاصل کنید
مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا: پایدار در دماهای بالا تا 1600 درجه سانتیگراد
خلوص بالا: ساخته شده توسط رسوب بخار شیمیایی CVD در شرایط کلرزنی با دمای بالا.
مقاومت در برابر خوردگی: سختی بالا، سطح متراکم و ذرات ریز.
مقاومت در برابر خوردگی: معرف های اسیدی، قلیایی، نمکی و آلی.
- دستیابی به بهترین الگوی جریان گاز آرام
- تضمین یکنواختی پروفیل حرارتی
- از هر گونه آلودگی یا انتشار ناخالصی ها جلوگیری کنید