چین سرامیک تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

Semicorex شریک شما برای بهبود در پردازش نیمه هادی است. پوشش‌های کاربید سیلیکون ما متراکم، در دمای بالا و مقاوم در برابر مواد شیمیایی هستند که اغلب در کل چرخه تولید نیمه‌هادی‌ها از جمله پردازش ویفر و ویفر نیمه‌رسانا و ساخت نیمه‌رسانا استفاده می‌شوند.

اجزای سرامیکی SiC با خلوص بالا برای فرآیندهای نیمه هادی بسیار مهم هستند. پیشنهاد ما از قطعات مصرفی برای تجهیزات پردازش ویفر، مانند قایق ویفر کاربید سیلیکون، پاروهای کنسول، لوله و غیره برای Epitaxy یا MOCVD است.

مزایای فرآیندهای نیمه هادی

مراحل رسوب لایه نازک مانند اپیتاکسی یا MOCVD، یا پردازش ویفر مانند اچ کردن یا کاشت یونی باید دماهای بالا و تمیز کردن شیمیایی سخت را تحمل کنند. Semicorex ساختار کاربید سیلیکون (SiC) با خلوص بالا را تامین می کند، مقاومت حرارتی عالی و مقاومت شیمیایی بادوام، حتی یکنواختی حرارتی برای ضخامت و مقاومت لایه epi ثابت را ارائه می دهد.

درب محفظه →
درب محفظه ای که در رشد کریستال و پردازش ویفر استفاده می شود باید در دمای بالا و تمیز کردن شیمیایی خشن مقاومت کند.

دست و پا زدن کنسول →
Cantilever Paddle یک جزء حیاتی است که در فرآیندهای تولید نیمه هادی، به ویژه در کوره های انتشار یا LPCVD در طی فرآیندهایی مانند انتشار و RTP استفاده می شود.

لوله فرآیند →
Process Tube یک جزء حیاتی است که به طور خاص در کاربردهای مختلف پردازش نیمه هادی مانند RTP و Diffusion طراحی شده است.

قایق های ویفر →
ویفر قایق در پردازش نیمه هادی استفاده می شود، به طور دقیق طراحی شده است تا اطمینان حاصل شود که ویفرهای ظریف در طول مراحل بحرانی تولید ایمن نگه داشته می شوند.

حلقه های ورودی →
حلقه ورودی گاز با پوشش SiC توسط تجهیزات MOCVD رشد مرکب دارای مقاومت در برابر حرارت و خوردگی بالا است که در محیط شدید پایداری زیادی دارد.

حلقه فوکوس →
حلقه فوکوس با پوشش سیلیکون کاربید تامین می کند Semicorex برای تمیز کردن RTA، RTP یا مواد شیمیایی خشن واقعا پایدار است.

ویفر چاک →
ویفر وکیوم سرامیکی فوق تخت Semicorex از روکش SiC با خلوص بالا در فرآیند جابجایی ویفر استفاده می کند.

Semicorex همچنین دارای محصولات سرامیکی در آلومینا (Al2O3)، نیترید سیلیکون (Si3N4)، نیترید آلومینیوم (AIN)، زیرکونیا (ZrO2)، سرامیک کامپوزیت و غیره است.